Rezonáns deszorpció tiszta és szénnel borított alkáli-halogenid felületekről: állapot-specifikus detektálás REMPI-vel

J. Heidberg
W. Claas
H.-C. Langowski
M. Suhren
M. Warskulat

Absztrakt

A NO deszorpcióját NaC1-re (100) kondenzált többrétegű rendszerekből, valamint NaCl-ra (100) bepárolt C-filmekről az NO cisz-dimer υ1 szimmetrikus nyújtási rezgésének rezonáns gerjesztésével indukáltuk, a CO2 frekvenciájával megduplázva lézer. A C-film-NaC1 (100) esetében további, nem rezonáns deszorpciót figyeltünk meg alacsonyabb kondenzátum-fedéseknél (~ 16 egyrétegű). A deszorbeált NO monomerek repülési idő eloszlásából származó transzlációs hőmérsékletek magasabbak vagy egyenlőek a lézer által kiváltott felületi hőmérsékletek számított maximumával. A deszorbeált NO molekulák állapot-szelektív detektálása rezonanciával fokozott multi-foton ionizációval (REMPI) 190 ± 20 K rotációs hőmérsékletet jelez a megfelelő deszorbeált transzlációs hőmérsékleten, 120 K.